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半導體元件物理與製程─理論與實務

的圖書
半導體元件物理與製程─理論與實務 半導體元件物理與製程─理論與實務

作者:劉傳璽陳進來 
出版社:五南
出版日期:2022-01-25
語言:繁體/中文   
圖書介紹 - 資料來源:TAAZE 讀冊生活   評分:
圖書名稱:半導體元件物理與製程─理論與實務

本書特色:
●包含實務上極為重要,但在坊間書籍幾乎不提及的WAT,與鰭式電晶體(Fin-FET)、環繞式閘極電晶體(GAA-FET)等先進元件製程,以及碳化矽(SiC)與氮化鎵(GaN)功率半導體等先進技術。
●大幅增修習題與內容,以求涵蓋最新世代積體電路製程技術之所需。
●以最直觀的物理現象與電機概念,清楚闡釋深奧的元件物理觀念與繁瑣的數學公式。
●適合大專以上學校課程、公司內部專業訓練、半導體從業工程師實務上之使用。

以深入淺出的方式,系統性地介紹目前主流半導體元件(CMOS)之元件物理與製程整合所必須具備的基礎理論、重要觀念與方法、以及先進製造技術。內容可分為三個主軸:第一至第四章涵蓋目前主流半導體元件必備之元件物理觀念、第五至第八章探討現代與先進的CMOS IC之製造流程與技術、第九至第十二章則討論以CMOS元件為主的IC設計和相關半導體製程與應用。由於強調觀念與實用並重,因此儘量避免深奧的物理與繁瑣的數學;但對於重要的觀念或關鍵技術均會清楚地交代,並盡可能以直觀的解釋來幫助讀者理解與想像,以期收事半功倍之效。
本書宗旨主要是提供讀者在積體電路製造工程上的know-how與know-why;並在此基礎上,進一步地介紹最新半導體元件的物理原理與其製程技術。它除了可作為電機電子工程、系統工程、應用物理與材料工程領域的大學部高年級學生或研究生的教材,也可以作為半導體業界工程師的重要參考。

作者簡介:

劉傳璽
學歷:
美國亞歷桑那州立大學電機博士

現職:
國立臺灣師範大學機電工程學系教授
國際知名學術期刊(如IEEE等)之專業論文審查委員

經歷:
考試院典試委員
國家高等考試命題委員
法務部司法官學院講座、司法院法官學院講座(講授「半導體產業營業秘密介紹」)
國立臺灣師範大學副教務長兼通識中心主任、進修推廣學院副院長
科技部專題計畫審查委員、複審委員
勞動部勞動力發展署複審委員
經濟部工業局專業審查委員
國立臺灣師範大學領航教師、教學傑出教師
中華民國教育學術團體木鐸獎獲獎人、行政院科技部特殊優秀人才獎勵
教育部高等教育司學術倫理審查委員
教育部國教署課程審議委員、教育部中等學校師培專門課程審查委員
銘傳大學電子系副教授兼系主任、國際學院學群主任
國立台北科技大學兼任副教授
聯華電子公司經理
美國紐約IBM公司研發工程師
2003 & 2004 IEEE/IEDM與2011 IEEE/INEC之委員會委員與論文審查委員
2003 IEEE/IRPS workshop moderator與2011 VLSI Technology論文審查
國際知名期刊IEEE Electron Device Letters (EDL), Transactions on Electron Devices (T-ED), Transactions on Device and Materials Reliability (T-DMR), Journal of the Electrochemical Society (JES), Applied Physics Letters (APL), Journal of Applied Physics (JAP), Microelectronic Engineering (MEE), 與Progress in Photovoltaics (PIP)…等之審稿委員
新竹科學園區台積電、聯電、聯詠科技、華邦電…等上市櫃科技公司與法務部調查局之授課老師或專題演講

著作:
國際學術論文超過100篇、中文書籍6本、中美專利超過20件


陳進來
學歷:
國立交通大學電子工程博士
上海復旦大學EMBA

現職:
聯發科(MediaTek)製造本部副總經理

經歷:
新加坡Denselight (三五族銦磷雷射設計製造)營運長
新加坡Advanced Micro Foundry副總經理、矽光子8吋廠廠長
永續智財技術服務有限公司總經理
宜特科技中華區副總經理
聯華電子製程整合部經理/技術開發10年經驗
國際電子元件會議(IEDM) IC製造委員會(ICM)主席(2000-2002)
國際電子元件會議(IEDM) 亞洲主席(2003-2004)
第十二屆中華民國國家發明獎個人組銅牌(2003)

著作:
21篇半導體製程/元件開發論文、120件中華民國/美國/日本/韓國半導體製程專利

作者序
目前積體電路的設計生產模式分為兩種,一為整合元件製造(IDM),將電路設計與晶片製造在同一積體電路公司內完成。另一則為台灣發展出的垂直分工模式,電路設計公司(circuit design house)專門負責設計特定功能的晶片,而晶片的製造則交給專業的晶圓專工廠(foundry)來做。這種生產模式的優點是專業分工,電路設計公司負責設計更多工,更高效率的電路,晶圓專工則專注於半導體製程的整合開發,以提升良率(yield)與產能(throughput)。但此分工模式往往存在一道專業上的隔閡於電路設計者(circuit designer)與製程整合工程師(proce...
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目錄
第一章 半導體元件物理的基礎
  1.1 半導體能帶觀念與載子濃度
  1.2 載子的傳輸現象
  1.3 支配元件運作的基本方程式
第二章 P-N 接面
  2.1 P-N接面的基本結構與特性
  2.2 零偏壓
  2.3 逆向偏壓
  2.4 空乏層電容
  2.5 單側陡接面
  2.6 理想的電流-電壓特性
  2.7 實際的電流-電壓特性
  2.8 接面崩潰現象與機制
第三章 金氧半場效電晶體(MOSFET)的基礎
  3.1 MOS電容的結構與特性
  3.2 理想的MOS(金氧半)元件
  3.3 實際的MOS(金氧半)元件
第四章 長通道MOSFET...
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