實用X射線光譜分析

本書是現代X射線光譜分析綜合性參考書。全書共分十七章，系統介紹X射線的物理基礎，基本性質，激發，色散，探測與測量，波長色散與能量色散光譜儀，基體效應，光譜背景和譜線重疊，樣品制備，定性與半定量分析，實驗校正法，數學校正法定量分析，薄膜和鍍層厚度分析，應用實例及分析誤差與不確定度等內容。附錄列舉了X射線熒光光譜分析常用的物理常數，相關數據等，供讀者參考使用。本書適用於冶金，地質，礦山，建材，檢驗檢疫，石油，化工，環境，農業，生物，食品，醫藥，文物及考古等部門從事X射線光譜分析的專業人員及相關工程技術人員參考，同時適用於高等院校相關專業師生，研究生及科研院所工程技術人員參考。