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Zemax光學設計從基礎到實踐

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Zemax光學設計從基礎到實踐 Zemax光學設計從基礎到實踐

作者:張璽 
出版社:化學工業出版社
出版日期:2024-11-01
語言:簡體中文   規格:平裝 / 379頁 / 19 x 26 x 1.9 cm / 普通級/ 1-1
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圖書介紹 - 資料來源:博客來   評分:
圖書名稱:Zemax光學設計從基礎到實踐

內容簡介

本書系統講解了利用Zemax 2023進行光學設計和仿真分析的各種方法和技巧,主要內容包括光學設計基礎、認識Ansys Zemax OpticStudio、初識鏡頭數據編輯器、光學成像鏡頭設計、鏡頭編輯高級操作、光學系統分析、非序列模式設計、幾何光學像質評價、物理光學像質評價、光學系統的優化、光學系統公差分析和光學系統設計實例等。

本書內容全面實用,循序漸進,實例豐富,且提供全部實例源文件,方便讀者上手實踐。同時,重點實例配套視頻講解,掃描書中相應的二維碼,即可邊學邊看,學習更加高效。

本書非常適合從事光學系統設計、仿真與分析的技術人員自學使用,也可用作高等院校相關專業的教材及參考書。





 

詳細資料

  • ISBN:9787122454645
  • 規格:平裝 / 379頁 / 19 x 26 x 1.9 cm / 普通級 / 1-1
  • 出版地:中國
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