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VLSI概論

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VLSI概論(張)5DA4 VLSI概論(張)5DA4

作者:張勁燕 
出版社:五南
出版日期:2008-12-10
語言:繁體中文   規格:平裝 / 528頁 / 20K / 普級 / 單色印刷 / 初版
圖書介紹 - 資料來源:TAAZE 讀冊生活   評分:
圖書名稱:VLSI概論

矽積體電路製程的特徵尺寸縮小到深次微米(deep submicron meter),經歷幾個階段,0.35μm、0.25μm、0.18μm、0.13μm、,現階段已到達0.07μm。相關的製程、設備、材料或場務設施,都有革命性的更新和進步。微影照像是受到影響最大的製程。DRAM的電晶體的閘極結構和材料、工程。高介電常數材料使電容量保持夠大。金屬化製程、阻障層、內嵌、快閃、鐵電記憶體結構等。高深寬比的乾蝕刻製程需要高密度電漿;降低阻容延遲(RC delay)使用低介電常數材料和銅製程。新製程有雙大馬士革(dual damascene)、電鍍(electroplating)、無電極電鍍(electroless plating)和/或金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)。21世紀顯學奈米科技更製作出單電子電晶體。晶圓尺寸由8吋擴大到12吋,為的不止是提高良率、提高機器使用率;也考慮到生產力,節省工廠面積、還要兼顧人工學(ergonomics)和減少化學藥液以利環保。
  
本書配合拙著電子材料、半導體製程設備、工業電子學構成一完整系列。期望給想從事半導體的同學和研究生,或和半導體製程相關行業的工程師、經理、教授、老師們一項便捷的參考。

作者簡介:

張勁燕

現職:逢甲大學電子系副教授

學歷:交通大學電子工程系研究所博士

經歷:新加坡Intersil電子公司工程師

   ITT環宇電子公司工程部經理

   台灣電子電腦公司半導體廠廠長

   萬邦電子公司總工程師

   明新工專電子科副教授(或兼科主任)

   逢甲大學電機系副教授(或兼系主任)

專長:半導體元件、物理

   VLSI製程設備及廠務

   奈米科技

   積體電路構裝


目錄
第1章 微影照像
  1.1 緒 論
  1.2 ULSI微影技術的延伸與極限
  1.3 提升光學微影製程的技術
  1.4 深次微米微影照像
  1.5 電子束微影技術
  1.6 光罩和圖規
  1.7 阻劑和抗反射覆蓋
  1.8 參考文獻
  1.9 習 題
第2章 低介電常數材料及其製程
  2.1 緒 論
  2.2 低介電常數材料用於ULSI
  2.3 材料種類和演進
  2.4 金屬前介電質
  2.5 含二氧化矽的介電質
  2.6 其他的無機低介電常數材料
  2.7 有機低介電常數材料
  2.8 特性量測、蝕刻
  2.9 參考文獻
  2.10 習 ...
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商品資料
  • 作者: 張勁燕
  • 出版社: 五南圖書出版股份有限公司 出版日期:2008-12-10 ISBN/ISSN:9571152455
  • 語言:繁體中文 裝訂方式:平裝 頁數:528頁
  • 類別: 中文書> 科學> 應用科學
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