半導體奈米技術(精)

　　半導體製程已進入奈米線幅，而廣義微影技術為半導體製程之核心，惜國內尚無中文微影技術專書，因此決定教研之餘撰寫本書，以彌補此缺憾與空白，並為推動科技中文化，略盡個人棉薄。

　　本書重點在微影技術原理與概念之說明，而不在生產線上實務細節之描述。內容包括微影技術全部重要內涵，例如微影製程、微影光學、主要微影方法、其他微影方法、圖罩與圖規、阻劑、解像度增進技術、銅互連線、化學機械研磨、電漿蝕刻與光學微影模擬。基於多年在交通大學應用化學研究所之教學經驗，本書亦包含瞭解微影技術必要之矽製程背景知識與基礎光學。

　　末來數年，半導體量產線幅當推進至45-32-22奈米技術節點，光學微影製程之難度日益增加，對製程工程師之挑戰亦日益升高。本書對相關領域讀者應有所助益與參閱價值。

作者簡介

龍文安

現職
　　國立交通大學應用化學系暨研究所教授

學歷
　　美國杜蘭大學化學博士

第一章　背景知識
第二章　微影緒論
第三章　微影製程概述
第四章　基礎光學
第五章　微影光學
第六章　主要微影方法
第七章　其他微影方法
第八章　圖罩與圖規
第九章　阻劑化學
第十章　解像度增進技術
第十一章　銅互連線
第十二章　化學機械研磨
第十三章　電漿蝕刻
第十四章　微影模擬