目錄
第1章 諸論-顯示未來1-11.1 前言1-11.2 平面顯示世代1-21.3 液晶顯示器的發展與沿革1-31.4 無機發光二極體之發展1-91.5 小分子有機發光二極體之發展1-91.5.1 小尺寸SMOLED的之開發1-101.5.2 中大尺寸SMOLED的開發1-121.6 高分子有機發光二極體之發展1-131.7 主動式有機發光二極體的優勢1-181.7.1 輕薄省電1-211.7.2 反應速度1-231.7.3 數位影像1-24第2章 有機發光二極體應用與規格2-12.1 前言2-12.2 有機發光二極體應用2-22.2.1 手持式裝置顯示器2-32.2.2 車用顯示器2-32.2.3 筆記型電腦顯示器2-42.2.4 多媒體應用顯示器與監視器2-52.2.5 航空電子顯示器2-52.2.6 雷達顯示器2-62.2.7 醫療用顯示器2-72.2.8 平面電視2-82.3 面板解析度2-102.3.1 長寬比2-122.3.2 CIF與QCIF2-132.3.3 VGA與QVGA2-142.3.4 XGA與SXGA2-142.3.5 QUXGA與QUXGA-Wide2-152.3.6 HDTV2-152.4 綠色概念設計2-182.4.1 無鉛面板2-192.4.2 無汞面板2-202.4.3 無鉻面板2-202.4.4 省電設計2-20第3章 有機發光二極體顯示原理3-13.1 前言3-13.2 發光二極體顯示原理3-23.3 有機發光二極體顯示原理3-33.3.1 三元色發光原理3-53.3.2 白光發光原理3-53.4 元件結構3-63.4.1 陽極層3-83.4.2 電洞注入層3-93.4.3 電洞傳輸層3-93.4.4 發光層3-113.4.5 雙發光層3-133.4.6 電子傳輸層3-143.4.7 陰極層3-153.5 發光效率3-153.5.1 螢光發光3-173.5.2 磷光發光3-183.6 亮度加強3-203.6.1 對比度3-213.6.2 光加強結構3-233.6.3 微透鏡陣列3-243.6.4 透鏡製造方法3-263.7 色彩飽和度3-293.8 反應時間3-333.8.1 灰階對灰階時間3-343.8.2 影像殘留3-36第4章 有機發光二極體全彩技術4-14.1 前言4-14.2 彩色化製造流程4-24.3. 熱蒸鍍法4-44.3.1 真空熱蒸鍍架構4-44.3.2 點狀源與線狀源4-74.3.3 金屬遮罩定位4-84.3.4 金屬遮罩設計4-104.3.5 金屬遮罩精度4-124.3.6 遮罩清潔4-154.4 有機氣相沈積4-164.5 旋轉塗佈法4-184.6 噴墨印刷法4-204.6.1 噴墨頭設計4-224.6.2 噴墨準確度4-234.6.3 表面處理4-274.7 外在媒體變換法4-294.7.1 色轉換法4-294.7.2 RGB彩色濾光片法4-314.7.3 RGBW彩色濾光片法4-334.7.4 COA架構4-344.7.5 黑色矩陣設計4-354.8 轉印法4-354.8.1 雷射感熱成像4-354.8.2 奈米壓印技術4-36第5章 被動式矩陣背板技術5-15.1 前言5-15.2 被動式矩陣架構5-15.2.1 被動式面板限制5-35.2.2 有機發光二極體之整流比5-65.3 被動式SMOLED製造流程5-75.3.1 負型光阻製程5-75.3.2 剝脫製程5-85.3.3 整合型分離體製程5-95.4 被動式LEP製造流程5-115.5 被動式驅動系統5-125.5.1 灰階顯示5-145.5.2 預充電電路5-175.5.3 串音5-215.5.4 閃爍5-215.5.5 功率消耗5-225.6 驅動IC封裝5-235.6-1 自動捲帶封裝5-245.6.2 軟膜覆晶封裝5-245.6.3 玻璃覆晶封裝5-25第6章 主動式矩陣背板技術6-16.1 前言6-16.2 單晶矽電晶體6-26.3 低溫複晶矽薄膜電晶體6-26.3.1 線束型準分子雷射結晶6-76.3.2 循序性側向雷射結晶6-86.3.3 固態雷射結晶6-106.3.4 金屬誘發結晶型6-126.3.5 複合結晶型6-136.4 非晶矽薄膜電晶體6-136.4.1 光罩縮減製程6-156.4.2 半色調型光罩6-186.4.3 灰色調型光罩6-196.4.4 狹縫型光罩6-196.4.5 載子移動率6-206.4.6 微晶矽薄膜6-226.4.7 臨界電壓6-246.5 有機薄膜電晶體6-256.5.1 有機主動層6-266.5.2 電極結構6-306.5.3 接觸電阻6-316.5.4 導通電阻6-326.5.5 閘極絕緣層6-336.5.6 複合型閘極絕緣層6-336.5.7 絕緣層表面型態6-346.6 畫素發光架構6-356.6.1 下部發光型畫素6-366.6.2 上部發光型畫素6-386.6.3 雙面發光型畫素6-386.7 低阻值導線6-396.7.1 鋁金屬6-426.7.2 銅與銀金屬6-42第7章 有機發光二極體陽極製程7-17.1 前言7-17.2 陽極電極特性7-27.3 氧化銦錫7-57.3.1 成膜技術7-67.3.2 冷氧化銦錫7-97.3.3 薄膜導電性7-107.3.4 表面粗糙度7-117.4 氧化銦鋅7-127.4.1 成膜技術7-137.4.2 表面粗糙度7-147.5 氧化鋅7-157.5.1 成膜技術7-157.5.2 薄膜導電性7-167.6 堆疊型陽極7-167.7 反射型陽極7-177.8 微共振腔結構7-187.8.1 金屬鏡-金屬鏡型微共振腔7-187.8.2 金屬鏡-布拉格反射鏡型微共振腔7-217.9 陽極表面處理7-227.9.1 溼式與乾式處理7-227.9.2 底層表面形態7-257.9.3 基板平整性7-26第8章 有機發光二極體陰極製程8-18.1 前言8-18.2 陰極電極特性8-28.3 單層型陰極8-48.4 合金型陰極8-58.5 多層型陰極8-68.6 半穿透金屬型陰極8-78.7 對比加強架構8-88.7.1 圓形偏光架構8-108.7.2 光學增亮膜8-128.7.3 內部光學干涉8-138.7.4 抗反射層8-158.7.5 整合式黑色矩陣結構8-16第9章 主動式類比畫素設計9-19.1 前言9-19.2 畫素設計設定9-19.2.1 畫素間距9-29.2.2 畫素開口率9-59.2.3 RGB畫素排列架構9-59.2.4 RGBW畫素排列架構9-69.3 差異性衰減9-89.3.1 子畫素配置9-109.3.2 畫素驅動補償9-119.3.3 加瑪校正9-129.4 畫素驅動分類9-129.4.1 1T簡易型畫素9-139.5 電壓定義型畫素9-149.5.1 2T-1C畫素驅動9-159.5.2 修正型2T-1C畫素驅動9-169.5.3 3T-1C畫素驅動9-189.5.4 4T-2C畫素驅動9-199.6 電流定義型畫素9-229.6.1 4T-1C電流鏡畫素驅動9-229.6.2 4T-1C電流複製畫素驅動9-249.7 畫素補償架構9-25第10章 主動式數位畫素設計10-110.1 前言10-110.2 數位驅動設計10-210.3 面積比例灰階型10-210.3.1 畫框權重10-210.3.1 面積比例設計10-310.4 訊號時間比例灰階型10-510.4.1 顯示區間分離法10-510.4.2 顯示區間分離法畫素10-710.4.3 同步消除掃描法10-810.4.4 同步消除掃描法畫素10-910.5 時間面積混合比例灰階型10-10第11章 有機發光二極體封裝技術11-111.1 前言11-111.2畫素暗點11-211.2.1 壽命11-311.2.2 老化機制11-411.3 封裝規格需求11-611.4 外蓋封裝11-711.4.1 外蓋封裝製程11-811.4.2 外蓋材質11-1011.4.3 外蓋封口膠11-1311.4.4 乾燥劑11-1611.5 單層薄膜封裝11-1911.5.1 氧化矽膜封裝11-2311.5.2 氮化矽膜封裝11-2411.5.2 SiONx單層膜封裝11-2511.5.3 類鑽碳單層膜封裝11-2511.5.4 其他單層膜封裝11-2611.6 多層薄膜封裝11-2711.6.1 氮化矽/氮化碳多層膜封裝11-2711.6.2 氮化矽/氧化矽多層膜封裝11-2811.6.3 混合多層膜封裝11-2811.6.4 可撓曲封裝11-29第12章 有機發光二極體技術藍圖12-112.1 平面顯示技術藍圖12-112.2 有機發光二極體顯示器的未來12-512.4 結語12-8附錄A RPI複晶矽薄膜電晶體模型參數A-1附錄B RPI非晶矽薄膜電晶體模型參數B-1
第1章 諸論-顯示未來1-11.1 前言1-11.2 平面顯示世代1-21.3 液晶顯示器的發展與沿革1-31.4 無機發光二極體之發展1-91.5 小分子有機發光二極體之發展1-91.5.1 小尺寸SMOLED的之開發1-101.5.2 中大尺寸SMOLED的開發1-121.6 高分子有機發光二極體之發展1-131.7 主動式有機發光二極體的優勢1-181.7.1 輕薄省電1-211.7.2 反應速度1-231.7.3 數位影像1-24第2章 有機發光二極體應用與規格2-12.1 前言2-12.2 有機發光二極體應用2-22.2.1 手持式裝置顯示器2-32.2.2 車用顯示器2-32.2.3 筆記型電腦顯示器2-42.2.4 多媒體應用顯示...