發光二極體之原理與製程（修訂版）

第一章材料概論1.1晶體性質1.2能帶1.3半導體材料1.4晶體匹配第二章載子傳輸現象2.1載子傳輸現象2.2載子擴散2.3複合過程2.4連續性方程式第3章p-n接面理論3.1平衡條件3.2空乏區3.3電流-電壓特性3.4電容-電壓特性3.5暫態現象3.6接面崩潰第四章金屬-半導體接觸理論4.1金屬-半導體接觸的形式4.2蕭基接觸4.3毆姆接觸第五章晶體成長與量測5.1單晶成長5.2磊晶成長5.3晶體量測第六章發光二極體之製程技術6.1金屬化製程6.2微影製程6.3化學氣相沉積製程6.4擴散製程6.5蝕刻製程6.6研磨製程6.7切割製程第七章發光二極體之基本原理7.1輻射轉換7.2發光效率7.3電流-電壓特性的修正7.4電流擴散原理第八章發光二極體之結構與應用8.1可見發光光二極體8.2白光發光二極體8.3通訊發光二極體8.4背光源發光二極體8.5發光二極體的結構附錄

第一章材料概論1.1晶體性質1.2能帶1.3半導體材料1.4晶體匹配第二章載子傳輸現象2.1載子傳輸現象2.2載子擴散2.3複合過程2.4連續性方程式第3章p-n接面理論3.1平衡條件3.2空乏區3.3電流-電壓特性3.4電容-電壓特性3.5暫態現象3.6接面崩潰第四章金屬-半導體接觸理論4.1金屬-半導體接觸的形式4.2蕭基接觸4.3毆姆接觸第五章晶體成長與量測5.1單晶成長5.2磊晶成長5.3晶體量測第六章發光二極體之製程技術6.1金屬化製程6.2微影製程6.3化學氣相沉積製程6.4擴散製程6.5蝕刻製程6.6研磨製程6.7切割製程第七章發光二極體之基本原理7.1輻射轉換7.2發光效率...