國際專利分析與布局

序

第一章 產業發展與專利
第一節 前 言／1
第二節 產業革命與專利／2
第三節 工業4.0與專利／12
第四節 歐、非專利發展與現況／15
第五節 美洲專利發展與現況／18
第六節 亞澳專利系統／19
第七節 國際專利調和與申請概況／22
第八節 專利分析與布局／29

第二章 審查制度與專利公報
第一節 前 言／35
第二節 專利類型／36
第三節 發明專利審查制度與公開／38
第四節 國際優先權／45
第五節 發明專利權之發生與公告／51
第六節 新型專利形式審查與公報／56
第七節 設計專利審查與公報／61
第八節 專利權維護與變動／65

第三章 專利說明書與先前技術
第一節 前 言／69
第二節 專利文件概要／70
第三節 申請專利範圍獨立項／77
第四節 申請專利範圍多項制／83
第五節 新穎性與進步性要件／88
第六節 先申請案的地位／95
第七節 主張優先權／98
第八節 審查程序與修正／101

第四章 國際專利分類
第一節 前 言／105
第二節 五階分類的形成／106
第三節 三階分類／109
第四節 五階分類／112
第五節 分類指引／117
第六節 發明技術主題之分類位置／124
第七節 分類號標示／132
第八節 利用分類作歸類／135

第五章 美國專利系統
第一節 前 言／141
第二節 專利申請與說明書／142
第三節 公開制度／144
第四節 實體審查與公告公報／147
第五節 美國專利分類／153
第六節 分類應用與合作專利分類／158
第七節 先前技術引證／165
第八節 分割案與連續案／170
第九節 設計專利／173

第六章 特定技術之總體分析
第一節 前 言／179
第二節 關鍵詞檢索式／180
第三節 同義詞檢索／188
第四節 專利分類界定／191
第五節 關鍵詞與分類界定／194
第六節 主要專利權人申請趨勢／201
第七節 主要專利權人活躍度／207

第七章 日本專利系統與公報
第一節 前 言／213
第二節 發明專利審查制度與公報／214
第三節 實體審查與設定登錄專利權／217
第四節 優先權／222
第五節 新型專利與設計專利／226
第六節 國際專利分類與FI／231
第七節 日本專利分類／239
第八節 主要專利權人與技術發展／242

第八章 歐洲專利系統
第一節 前 言／247
第二節 歐洲專利系統概要／248
第三節 專利申請與審查制度／252
第四節 檢索與公開公報／256
第五節 實體審查與公告公報／259
第六節 申請與運用策略／262
第七節 合作專利分類／266
第八節 歐洲專利技術發展分析／269
第九節 單一歐洲專利與歐盟設計／274

第九章 PCT專利系統
第一節 前 言／277
第二節 PCT申請模式／278
第三節 提出PCT申請／281
第四節 受理局之處理／288
第五節 國際檢索／290
第六節 國際公開與公開公報／293
第七節 國際初步審查／297
第八節 進入國家階段／300
第九節 PCT專利資料檢索／305

第十章 多國申請與檢索報告
第一節 前 言／309
第二節 首先申請局／310
第三節 專利審查高速公路／315
第四節 檢索前之審查／320
第五節 EPO檢索報告／323
第六節 發明單一性／326
第七節 分割制度／330
第八節 PCT檢索報告與書面意見／336

第十一章 國際專利家族與布局
第一節 前  言／343
第二節 專利家族定義／344
第三節 專利家族成員數／346
第四節 專利家族申請分析／353
第五節 專利家族數總體分析／358
第六節 專利家族建構策略／362
第七節 多國專利檢索分析／366

第十二章 國際專利申請策略
第一節 前 言／375
第二節 日本特許廳處理PCT案／376
第三節 美國專利商標局處理PCT案／383
第四節 歐洲專利局處理PCT案／384
第五節 日本企業運用PCT申請／393
第六節 美國企業運用PCT申請／395
第七節 歐洲企業運用PCT申請／400

第十三章 技術與功效分析
第一節 前 言／413
第二節 研發觀點之技術歸類／414
第三節 子系統技術歸類／418
第四節 從專利文件獲得技術類名／421
第五節 技術功效矩陣／427
第六節 利用專利分類獲得技術功效／436
第七節 技術發展途徑／439

第十四章 中國專利系統
第一節 前 言／447
第二節 發明專利審查制度與公報／448
第三節 實體審查與授予專利權／452
第四節 實用新型與外觀設計／457
第五節 SIPO處理PCT申請案／461
第六節 中國企業運用PCT／467
第七節 美、日、中技術功效分析／471

第十五章 專利強度分析
第一節 前  言／479
第二節 專利件數與取得比率／480
第三節 基於被引證數的專利強度／484
第四節 專利分類技術廣度／491
第五節 國際專利申請強度／493
第六節 技術功效全面度／496
第七節 技術與功效強度／506

序

　　本書以「國際專利分析與布局」為名，旨在介紹專利公報之形成與解讀，以及國際專利資料之檢索方法、分析技巧，進而研擬企業的研發方向與專利布局策略。全文共十五章，除我國專利系統外，包含美國、日本、歐洲、中國、以及專利合作條約等五大專利系統。

　　第一章「產業發展與專利」介紹從第一次產業革命發展到第四次產業革命，專利在發展過程所扮演的角色，並從全世界主要國家專利系統與專利申請件數現況，瞭解專利分析與布局在現代企業的重要性與必要性。

　　第二章先以我國專利制度為基礎介紹「審查制度與專利公報」，包含發明、新型、與設計等三種專利的申請與審查制度，特別著重在專利公報的產生，以及與公報產出時間點有關的優先權制度，以便掌握如何利用專利公報。

　　第三章「專利說明書與先前技術」也是以我國制度紹介紹專利說明書的內容，以及界定專利權範圍的申請專利範圍，新發明是在既有技術的基礎上所發展，因此專利說明書的記載，以及專利審查時居核心地位的新穎性與進步性要件，均與以先前技術息息相關。

　　第四章「國際專利分類」是在專利公報中的一項重要欄位，本章包含國際專利分類五階分類的形成，分類原則，如何解析及利用專利文件中的國際專利分類。

　　第五章「美國專利系統」介紹外國專利系統中最常使用也是最重要的美國，在國際專利制度的調和進展下，各國制度差異性並不大，因此外國專利系統著重在其特殊的部分，或與我國較大差異部分，美國專利系統的特點包含公開制度、美國專利分類、先前技術引證、還有分割案與連續案制度等。

　　第六章「特定技術主題之總體分析」是以我國及美國專利資料為基礎，介紹如何運用關鍵詞、分類等欄位，編成檢索式獲得特定技術主題的專利池，並進行主要專利權人申請趨勢及活躍度等分析。

　　第七章介紹與我國關係密切的「日本專利系統」，包含日本的發明、新型、設計專利審查制度與專利公報的形成，以及日本所使用的日本專利分類。

　　第八章介紹「歐洲專利系統」，這是基於歐洲專利公約所建立的多國專利系統，歐洲專利審查制度採檢索與審查分離，有獨特的歐洲專利分類，近年與美國共同建立合作專利分類，多國專利系統與國家專利系統並存下，申請人有不同申請選擇與運用策略。

　　第九章「PCT專利系統」是基於專利合作條約所建立的系統，本系統包含從提出申請、國際檢索、國際公開與公開公報、國際初步審查、到進入國家階段獲得各國的專利權，本章也介紹PCT專利資料之檢索。

　　第十章「多國申請與檢索報告」是指一件發明申請多國專利時，如何擬定申請策略，在各國專利局之專利審查高速公路的合作下，如何選擇首先申請局，多國申請案第一份檢索報告有重要地位，本章也介紹歐洲專利系統與PCT系統的檢索報告，還有發明單一性與分割制度。

　　第十一章「國際專利家族與布局」主要介紹一件發明申請多國專利時所形成的專利家族，由於專利申請系統複雜，專利家族也有多種定義，本章內容包含如何建構專利家族，如何以專利家族為基礎進行特定技術主題的專利調查與總體分析。

　　第十二章「國際專利申請策略」主要介紹PCT系統的運用，包含日本特許廳、美國專利商標局、歐洲專利局如何處理PCT案，以便瞭解PCT系統或國家專利系統的選擇策略，並介紹日本企業、美國企業、以及歐洲企業常用的國際專利申請策略。

　　第十三章介紹對於研發者非常有用的「技術與功效分析」，包含就特定技術主題如何進行技術歸類、如何以子系統技術進行歸類，如何製作技術功效矩陣圖，並就特定技術獲得技術發展途徑。

　　第十四章介紹較晚建立但已是全世界專利申請數最多的「中國專利系統」，包含發明、實用新型、與外觀設計的審查制度與專利公報的形成，還有中國國家知識產權局如何處理PCT申請案，中國企業運用PCT系統的概況。

　　最後第十五章是「專利強度分析」，本章介紹可用較簡便計算方式獲得的專利強度指標，特別是可從專利分析圖表即可獲得的專利強度指標，包含：專利件數與取得比率、基於被引證數的專利強度、專利分類技術廣度、國際專利申請強度、技術功效全面度與強度等。

　　本書介紹國際專利系統的架構，雖涉及各國法制，但不做深入的法制面探討或比較法研究，為了敘述方便，若干法規、基準等條文引用，會作適當之修飾。本書引用許多實務案例，主要目地在說明分析方法，這些案例均為實際執行的結果，但所完成或檢索的時間點不一，有些案例為說明方便，在不影響實質結果的前提下會做適當之調整。案例中的主要專利權人多為企業，敘述時未必會敘述企業的完整正式名稱，也不拘泥於企業中文、英文名或縮寫，以一般大眾較熟悉的名稱為準。

　　本書耗時多年得以完成，首先感謝家人支持所提供的後盾與精神力量。並感謝多年來從事專利調查與分析工作前輩們的啟發與指點，以及參與各專利分析專案的企業界研發人員寶貴意見，還有勞心勞力的專利研究所研究生團隊，國立臺灣科技大學所提供的優良研究環境。也特別感謝元照出版公司費心編排校對，讓本書順利出版。

　　本書出版前已經過多次校對，但作者才疏學淺，雖字斟句酌，仍有諸多不完善與疏漏之處，尚祈各界先進不吝指正為禱。