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林慶福

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半導體平坦化CMP技術(修訂版)
$ 285
半導體平坦化CMP技術(修訂版)
作者:王建榮林必窕林慶福 
出版社:全華(本版)
出版日期:2000-06-15
語言:繁體/中文   
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圖書介紹看圖書介紹
圖書介紹 - 資料來源:TAAZE 讀冊生活   評分:
圖書名稱:半導體平坦化CMP技術(修訂版)

本書介紹目前半導體最受矚目的化學機械研磨(CMP)平坦技術。本書由五個章節所構成,基本概念不斷的強調,所以讀者可從任何一章切入都能吸收並理解。本書的內容包含:CMP的重要性,CMP的定位與CMP研磨的機制、CMP之要素技術、元件的應用實例、CMP的將來趨勢。本書適合半導體製造之工程人員閱讀參考。


目錄
目錄第一章 緒論──化學機械研磨在新一代大型    積體電路中所扮演的角色1-11.1 從真空管到IC,再到大型積體電路的   歷程1-11.2 化學機械研磨(CMP)在大型積體電路製 程上的必要性1-31.3 平坦化方法與化學機械研磨CMP1-71.4 CMP的應用工程及要求條件1-101.4.1 CMP的基本應用工程1-121.4.2 CMP的研磨要求及目標1-191.5 總 結1-22第二章 超精密研磨技術與CMP之基礎──CMP    的定位與CMP研磨的機制(Mechanism)2-12.1 前 言2-12.2 CMP的要求事項2-32.3 精密研磨法與研磨機制簡介2-42.3.1 各種鏡面研磨法的發展流...
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商品資料
  • 作者: 王建榮、林必窕、林慶福
  • 出版社: 全華圖書股份有限公司 出版日期:2000-06-15 ISBN/ISSN:9572129147
  • 語言:繁體中文 裝訂方式:平裝 頁數:312頁
  • 類別: 中文書> 科學> 應用科學
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