John Burke柏戰

光會損害博物館展品，損害程度取決於三個要素：光照強度、曝光時長及光照波長。我們要盡可能減少光照強度與曝光時長，以便將劣化損害降至最低，遺憾的是，許多對於光照損害的討論，只關注光照波長，即傾向將看不見的紫外線視為損害的主因，而忽略了光帶來的另外兩種破壞層面。為了不在「觀賞」與「保存」之間進退兩難，我們得將紫外線看作光帶來的廣泛現象之一環，並且提出更加多元的應對方案，才能確保藝術品獲得最妥善的保存。

作者簡介：

(一) 編/著/譯者簡介
鄭勤思 Nana
臺史博的修復師，負責科學分析、修護和展示保存工作，論文研究博物館照明，現在是成大工學院博士生，以科學理性和感性解析事物，是最大的樂趣。
柏戰 John Burke
曾擔任畫框師、修復師及修復與藏品部門主管，在藝術畫廊、歷史遺址及博物館工作超過50年。現為臺南藝術大學客座教授，專注於藝術修復與策略規劃，喜愛看到學生超越自己。他最愛的臭豆腐攤就在拔林火車站附近的渡子頭。

翁誌勵 Weng, Chih-Li
國立故宮博物院助理研究員，研究領域為文物預防性保存，及理論物理與數值模擬計算；並負責展櫃微環境控制與展示照明相關工作。

羅鴻文 Luo, Hung-Wen
國立臺南藝術大學博古所助理教授，國立臺灣科技大學工學博士，主要研究領域為博物館文物典藏、紙質與攝影文物修護、數位色彩管理、博物館照明等。

謝佩芳 HSIEH, PEI-FANG
臺史博專案助理，原理科背景，卻一腳踏入歷史學研究學生制服的穿與不穿，喜歡從事物質文化研究、或透過科學儀器了解文物中所隱藏的故事，未來持續努力運用所學，結合邏輯分析解決問題。